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http://repositorio.espe.edu.ec/handle/21000/19824
Registro completo de metadatos
Campo DC | Valor | Lengua/Idioma |
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dc.contributor.author | RODRIGUEZ MAECKER, ROMAN NICOLAY | - |
dc.contributor.author | VYHMEISTER BASTIDAS, EDUARDO ANDRES | - |
dc.date.accessioned | 2019-05-14T00:37:15Z | - |
dc.date.available | 2019-05-14T00:37:15Z | - |
dc.date.issued | 2016-03-01 | - |
dc.identifier.idautor | 1712082120 | - |
dc.identifier.idautor | 1757531718 | - |
dc.identifier.issn | 1563-5201 | - |
dc.identifier.uri | http://dx.doi.org/10.1080/00986445.2015.1124098 | - |
dc.identifier.uri | https://www.researchgate.net/publication/287120477_In-Situ_FTIR_Kinetic_Study_in_the_Silylation_of_Low-k_Films_with_Hexamethyldisilazane_Dissolved_in_Supercritical_CO_2 | - |
dc.identifier.uri | http://repositorio.espe.edu.ec/handle/21000/19824 | - |
dc.publisher | CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS | - |
dc.relation.ispartof | CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS, volumen 203, número 8 | - |
dc.rights | openAccess | - |
dc.title | INSITU FTIR KINETIC STUDY IN THE SILYLATION OF LOWK FILMS WITH HEXAMETHYLDISILAZANE DISSOLVED IN SUPERCRITICAL CO2 | - |
dc.type | Artículo | - |
Aparece en las colecciones: | Publicaciones Artículos Revistas |
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