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Título : INSITU FTIR KINETIC STUDY IN THE SILYLATION OF LOWK FILMS WITH HEXAMETHYLDISILAZANE DISSOLVED IN SUPERCRITICAL CO2
Autor: RODRIGUEZ MAECKER, ROMAN NICOLAY
VYHMEISTER BASTIDAS, EDUARDO ANDRES
Fecha de publicación : 1-mar-2016
Editorial: CHEMICAL ENGINEERING COMMUNICATIONS
URI : http://dx.doi.org/10.1080/00986445.2015.1124098
https://www.researchgate.net/publication/287120477_In-Situ_FTIR_Kinetic_Study_in_the_Silylation_of_Low-k_Films_with_Hexamethyldisilazane_Dissolved_in_Supercritical_CO_2
http://repositorio.espe.edu.ec/handle/21000/19824
ISSN : 1563-5201
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